发明名称 |
一种微纳深沟槽结构侧壁形貌快速测量方法及装置 |
摘要 |
本发明公开了一种微纳深沟槽结构侧壁形貌快速测量方法及装置,能够同时快速测量微纳深沟槽结构线宽、沟槽深度、侧壁角、侧壁粗糙度等侧壁形貌参数。步骤为:将波长为从近红外到中红外的光束经起偏后得到的椭圆偏振光投射到待测结构表面;采集待测结构表面零级衍射信号,计算得到微纳深沟槽结构测量红外椭偏光谱;采用分波长建模方法分别计算在近红外和中红外波段理论椭偏光谱,采用分步光谱反演方法与实验测量红外椭偏光谱匹配,依次提取出沟槽结构参数和粗糙度参数。装置包括红外光源、第一至第四离轴抛物镜、迈克尔逊干涉仪、平面反射镜、起偏器、样品台、检偏器、探测器和计算机;是一种非接触、非破坏性、低成本、快速侧壁形貌测量手段。 |
申请公布号 |
CN102082108B |
申请公布日期 |
2012.08.15 |
申请号 |
CN201010519775.1 |
申请日期 |
2010.10.26 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
刘世元;张传维;陈修国 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;G01B11/30(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
曹葆青 |
主权项 |
一种微纳深沟槽结构侧壁形貌测量方法,其步骤包括:第1步将红外光束经起偏器起偏后,投射到包含深沟槽结构的待测物品表面,红外光束位于近红外至中红外波段范围内,波长为0.8~20um;第2步入射光束经深沟槽结构各表面反射后,经检偏器检偏,采用红外探测器接收反射信号,得到干涉信号;第3步对红外探测器接收得到的干涉信号进行傅立叶变换,得到深沟槽结构的红外椭偏光谱;第4步采用分波长建模方法,分别计算深沟槽结构在近红外波段和中红外波段椭偏光谱,包括振幅比和相位差;第5步基于以上分波长建模方法,采用分步光谱反演方法依次提取深沟槽结构参数和粗糙度参数。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |