发明名称 磁化分析方法和磁化分析装置
摘要 能够考虑不完全磁化区域的磁化状态而进行高精度的磁化分析。磁化分析装置通过采用与磁化器相关的磁化器参数和与磁体材料相关的磁体参数进行磁场分析来计算施加于磁体材料的各部位的磁化磁场(S17),基于磁化磁场的计算结果和与不完全磁化区域相关的预先测量的退磁曲线,来计算作为与待分析的永磁体的不完全磁化区域相关的区域参数的回复相对导磁率和矫顽力(S18),通过使用区域参数的计算结果进行磁场分析,来计算表示待分析的永磁体的磁化状态的状态参数(S19)。
申请公布号 CN101529265B 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN200780039630.8 申请日期 2007.10.31
申请人 日立金属株式会社 发明人 岛村秀成;枣田充俊
分类号 G01R33/12(2006.01)I;G06F17/50(2006.01)I;H01F13/00(2006.01)I 主分类号 G01R33/12(2006.01)I
代理机构 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人 余朦;王艳春
主权项 磁化分析方法,对用磁化器磁化磁体材料而获得的永磁体的磁化状态进行分析,包括以下步骤:组织退磁曲线,所述退磁曲线是通过预先实际测量永磁体的不完全磁化区域的各部位而获得的并且与所施加的磁化磁场对应;利用所述退磁曲线计算与待分析的永磁体的不完全磁化区域相关的区域参数;以及利用所述区域参数的计算结果分析所述永磁体的磁化状态,其中,所述方法进一步包括以下步骤:采用与所述磁化器相关的磁化器参数和与磁体材料相关的磁体参数进行磁场分析,计算施加于所述磁体材料的各部位的磁化磁场;以及通过采用所述区域参数的计算结果进行磁场分析,计算表示所述待分析的永磁体的磁化状态的状态参数;其中,在计算所述区域参数的步骤中,基于所述磁化磁场的计算结果和所述退磁曲线,计算关于所述各部位的所述区域参数;以及在分析所述永磁体的磁化状态的步骤中,利用所述状态参数的计算结果分析所述磁化状态。
地址 日本东京