发明名称 半导体器件建模方法
摘要 一种半导体器件建模方法,属于微电子器件建模领域,该方法基于BSIM3V3器件模型,用于新一代半导体器件的仿真模拟,包括步骤:(1)设定半导体器件的关键工艺参数;(2)根据所述工艺参数建立半导体器件的物理模型;(3)明确半导体器件的电学指标;(4)根据所述物理模型和电学指标,反推提取所述模型的部分重要拟合参数;(5)提取其他模型参数,建立完整的BSIM3V3整套模型。该建模方法针对NMOS/PMOS仿真的RMS均方根误差可低于10%,能够精确反应新一代半导体器件性能,克服了半导体器件仿真与半导体工艺之间的延时,为基于新一代半导体器件的早期电路设计和技术开发提供可靠的研究基础。
申请公布号 CN102637215A 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN201110035578.7 申请日期 2011.02.10
申请人 上海宏力半导体制造有限公司 发明人 余泳
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 王洁
主权项 一种半导体器件建模方法,基于BSIM3V3器件模型,用于新一代半导体器件的仿真模拟,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)设定半导体器件的关键工艺参数;(2)根据所述工艺参数建立半导体器件的物理模型;(3)明确半导体器件的电学指标;(4)根据所述物理模型和电学指标,反推提取所述模型的部分重要拟合参数;(5)提取其他模型参数,建立完整的BSIM3V3整套模型。
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