| 发明名称 | 曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明为曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法，从投影单元(PU)正下方的曝光区域于Y轴方向分离的量测区域内，由于是一边使对准系统(ALG)的检测区域往Y方向移动、一边依序检测复数个标记，因此与现有固定对准系统而仅移动晶片载台(WST1、WST2)、同时进行标记检测的情形相比，能使标记检测时晶片载台往Y方向的移动量较小。由此，可使量测区域在Y方向的宽度较小，而谋求装置小型化。 | ||
| 申请公布号 | CN102636966A | 申请公布日期 | 2012.08.15 |
| 申请号 | CN201210110459.8 | 申请日期 | 2006.12.28 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 柴崎佑一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李强 |
| 主权项 | 一种曝光方法，用于使物体曝光，其特征在于：在相对该物体进行曝光的曝光区域至少于第1方向位置相异的量测区域内，于该第1方向移动标记检测系统的检测区域，以检测该物体上的复数个标记；使用该标记的检测结果在该曝光区域内移动该物体。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||