发明名称 光照射装置和光照射方法
摘要 本发明提供了光照射装置和光照射方法。所述光照射装置包括:光源,其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质,在所述记录层和通过信号光和参考光的干涉带记录信息;空间光调制器,其对来自所述光源的光执行空间光调制,以生成所述信号光和/或参考光;以及光照射单元,其允许受到所述空间光调制器的空间光调制的光作为记录/再现光通过物镜照射所述全息记录介质,其中,所述记录/再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录/再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离。
申请公布号 CN101783150B 申请公布日期 2012.08.15
申请号 CN201010004039.2 申请日期 2010.01.18
申请人 索尼公司 发明人 山川明朗;田中健二;伊藤辉将
分类号 G11B7/0065(2006.01)I;G11B7/125(2012.01)I 主分类号 G11B7/0065(2006.01)I
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人 李晓冬;南霆
主权项 一种光照射装置,包括:光源,其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质,在所述记录层中通过信号光和参考光的干涉带而记录了信息;空间光调制器,其对来自所述光源的光执行空间光调制,以生成所述信号光和/或参考光;以及光照射单元,其允许经所述空间光调制器空间光调制的光作为记录/再现光通过物镜照射所述全息记录介质,其中,所述记录/再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录/再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离,其中,所述全息记录介质是利用在所述记录层的下层侧具有反射层的反射型记录介质来构造的,其中,所述光照射单元被配置为将所述记录/再现光作为由所述空间光调制器生成的前向路径光通过中继透镜系统引导至所述物镜,并且允许响应于作为所述前向路径光的所述记录/再现光的照射而从所述全息记录介质获得的作为后向路径光的光入射到所述中继透镜系统,并且其中,所述光照射装置还包括在作为所述前向路径光的所述记录/再现光通过所述中继透镜系统形成的傅立叶平面或所述傅立叶平面附近位置上的前向路径光选择性抑制单元,所述前向路径光选择性抑制单元在记录时至少仅针对所述前向路径光抑制包括光轴中心的预定范围以外的光。
地址 日本东京都