发明名称 基板之导电柱表面处理方法
摘要 一种基板之导电柱表面处理方法,其主要包含下列步骤:提供一具有一上表面、一下表面、至少一导通孔及至少一导电柱之基板,该导电柱系形成于该导通孔且具有一第一表面及一第二表面;形成一金属镀层于该基板之该下表面及该导电柱之该第二表面,该金属镀层系具有复数个覆盖该下表面及该第二表面之金属岛及复数个显露该下表面及该第二表面之空间;形成一锡镀层于该金属镀层上,该锡镀层系覆盖该金属镀层之该些金属岛并填充于该些空间;以及图案化该金属镀层与该锡镀层以显露出该基板之该下表面。
申请公布号 TWI370533 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW097132442 申请日期 2008.08.25
申请人 国立屏东科技大学 屏东县内埔乡学府路1号 发明人 卢威华
分类号 H01L23/522 主分类号 H01L23/522
代理机构 代理人 张启威 高雄市鼓山区龙胜路68号
主权项
地址 屏东县内埔乡学府路1号