发明名称 形成穿过基板之互连的方法
摘要 本发明提供一种形成一穿过基板之互连的方法,该方法包括形成一进入一半导体基板中之通路。该通路延伸进入该基板之半导电材料中。涂覆一液体介电质,以相对于初始形成该通路之基板之一侧面,衬垫该通路之侧壁之至少一立面最外部分。该液体介电质在该通路内固化。在该通路内,于固化介电质上形成导电材料,且以该导电材料形成一穿过基板之互连。
申请公布号 TWI370517 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW097131015 申请日期 2008.08.14
申请人 美光科技公司 美国 发明人 大卫 普拉提;安帝 派金斯
分类号 H01L21/768;H01L23/535 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国