发明名称 制造具有双电压选择闸结构之非挥发性记忆体
摘要 一种用于一非挥发性储存系统之选择闸极结构,其包括一选择闸极及一耦合电极,该选择闸极及该耦合电极系可独立驱动。该耦合电极相邻于一NAND串中的一字线,并且具有一经施加之电压,其减小一相邻非所选非挥发性储存元件的闸极引发汲极降低(GIDL)程式化干扰。具体而言,当使用该相邻之字线进行程式化时,可施加一升高之电压至该耦合电极。当使用一非相邻之字线进行程式化时,施加一减小之电压。亦可依据其它程式化准则来设定该电压。该选择闸极系由一第一传导区予以提供,而该耦合电极系由一第二传导区予以提供,该第二传导区系形成于该第一传导区上且隔离于该第一传导区。
申请公布号 TWI370487 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW096138730 申请日期 2007.10.16
申请人 桑迪士克股份有限公司 美国 发明人 尼马 莫克莱西;东谷雅明
分类号 H01L21/28;H01L21/8247 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人 黄章典 台北市松山区敦化北路201号7楼;楼颖智 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国