基板处理装置

摘要

本发明之基板处理装置具备：索引器块、反射防止膜用处理块、阻剂膜用处理块、显像处理块、阻剂盖膜用处理块、阻剂盖膜除去块、洗净/乾燥处理块、以及介面块。以与基板处理装置之介面块邻接之方式配置曝光装置。于曝光装置中，利用液浸法进行基板之曝光处理。于洗净/乾燥处理块之端部洗净单元，电刷抵接于旋转之基板之端部，以洗净曝光处理前之基板之端部。此时，基板之洗净位置得到修正。