发明名称 改善电浆蚀刻均匀度的方法和装置
摘要 本发明提供一种于使用感应式耦合电浆螺旋感应器的电浆蚀刻制程期间改善基板上蚀刻均匀度的方法和装置。该电浆装置包括一真空室;一位于该真空室中的支撑部件,用于固定该基板;一蚀刻气体供应器,用以提供蚀刻气体给该真空室;一排气部,其系和该真空室流体连通;一RF电源;以及一螺旋感应器,其系设置在该真空室其中一部份的周围或附近处。本发明提供一感测器来量测制程属性,用以产生一信号给一控制器,该控制器接着控制一机制来改变该螺旋感应器的位置,因而改善电浆蚀刻的均匀度。
申请公布号 TWI370490 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW094132966 申请日期 2005.09.23
申请人 尤那西斯美国公司 美国 发明人 大卫J 强森;卢歇尔 威斯特曼
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 美国
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