发明名称 真空处理装置
摘要 本发明减轻搬送臂之负荷而提高产量,同时以较高之位置对准精度将晶圆搬送至真空处理室。于第1搬送臂A1以及第2搬送臂A2之间,经由旋转载置台5进行晶圆之移送,对于真空处理前之晶圆W一面使上述旋转载置台5旋转,一面使用线感测器6取得晶圆W之周缘之位置资料。根据该位置资料,求出晶圆之中心与晶圆之方向之位置,根据该晶圆之方向,控制上述旋转载置台之旋转以对准该方向,并根据上述晶圆之中心位置,以于该晶圆之中心与真空处理室之晶圆载置部之中心一致的状态下,对上述晶圆载置部进行该晶圆之移送的方式控制上述第2搬送臂A2。
申请公布号 TWI370511 申请公布日期 2012.08.11
申请号 TW097102056 申请日期 2008.01.18
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 近藤圭佑
分类号 H01L21/68;H01L21/205 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本