发明名称 |
一种陶瓷抛光砖及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种陶瓷抛光砖及其制备方法。通过二次布料、干压成形、辊道窑烧成和机械抛光等工序,制备具有底层和面层两层结构的陶瓷抛光砖,其中底层的氧化铁含量质量百分数为0.5~3.0%,面层的氧化铁含量质量百分数低于0.5%。本发明方法可以大量利用储量丰富、含铁高的低品质陶瓷原料,从而显著节约优质陶瓷原料,降低生产成本,促进陶瓷行业的可持续发展,同时制造出具有吸水率低、强度高等特点的陶瓷抛光砖。 |
申请公布号 |
CN102140831B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201110026181.1 |
申请日期 |
2011.01.21 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
吴建青;康德飞;朱法银;谢平波;彭诚 |
分类号 |
E04F13/14(2006.01)I;C04B35/14(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I;B28B1/00(2006.01)I |
主分类号 |
E04F13/14(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种陶瓷抛光砖,其特征在于,所述陶瓷抛光砖具有底层和面层两层结构,其中底层的氧化铁含量质量百分数为0.5~3.0%,面层的氧化铁含量质量百分数低于0.5%;所述底层的其它原料组分如下:SiO2的质量百分数为71.0~73.0%,Al2O3的质量百分数为16.0~21.0%,MgO的质量百分数为0.2~1.5%,CaO的质量百分数为0.1~4.0%,K2O的质量百分数为1.0~2.5%,Na2O的质量百分数为2.5~5.0%。 |
地址 |
510640 广东省广州市天河区五山路381号 |