发明名称 |
用于沟道填充的新型沟道隔离槽 |
摘要 |
本发明公开了以一种用于沟道填充的新型矩形沟道隔离槽,属于微机电系统(MEMS)和微加工技术。本发明提出的沟道隔离槽,内壁面上任意一点到外壁面距离均不大于d,d为沟道隔离槽宽度。满足上述技术特征的沟道隔离槽具体形式多样,本发明给出了多个具体实施例。本发明通过直接改变沟道隔离槽的拐角形状,进而避免矩形槽拐角处出现小部分未填充的现象,以保证沟槽拐角处可以完全填充。虽然由于刻蚀离子会从底面弹回,造成对侧壁的二次刻蚀,但是由于矩形沟道拐角处为圆弧等形状,内壁面与外壁面之间距离小于或等于2μm与矩形槽之间距离相等,足以确保填充无缝隙。 |
申请公布号 |
CN102627252A |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201210118164.5 |
申请日期 |
2012.04.19 |
申请人 |
西北工业大学 |
发明人 |
乔大勇;史龙飞;刘耀波;康宝鹏;杨璇;梁晓伟;夏长峰 |
分类号 |
B81B7/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81B7/00(2006.01)I |
代理机构 |
西北工业大学专利中心 61204 |
代理人 |
吕湘连 |
主权项 |
一种用于沟道填充的新型沟道隔离槽,其特征在于:内壁面上任意一点到外壁面距离均不大于d,d为沟道隔离槽宽度。 |
地址 |
710072 陕西省西安市友谊西路127号 |