多级灰度光掩模及其制造方法

摘要

本发明提供多级灰度光掩模及其制造方法，所述多级灰度光掩模具有转印图案，该转印图案带有透光区域、遮光区域以及半透光区域。所述转印图案中的半透光区域具有第1半透光部(具有第1有效透光率)和第2半透光部(具有不同于所述第1有效透光率的第2有效透光率)。所述转印图案的所述第1有效透光率和第2有效透光率被设定成：使用所述光掩模对被转印体上的抗蚀剂膜进行曝光而转印所述转印图案后，对所述抗蚀剂膜显影，由此形成的抗蚀剂图案上对应所述第1半透光部的部分和所述第2半透光部的部分具有实质相同的抗蚀剂残膜值。

主权项

一种多级灰度光掩模，其具有转印图案，通过设置在透明基板上的遮住曝光光的遮光膜和使所述曝光光部分透过的半透光膜，所述转印图案具有透光区域、遮光区域以及半透光区域，所述多级灰度光掩模的特征在于，以所述透光区域的曝光光透光率为100％，采用在曝光条件下透过所述半透光区域的光强度分布中具有最大值的部分的透光率作为有效透光率时，所述转印图案中的半透光区域包括具有第1有效透光率的第1半透光部和具有与所述第1有效透光率不同的第2有效透光率的第2半透光部，所述转印图案的所述第1有效透光率和第2有效透光率被设定成：使用所述光掩模对被转印体上的抗蚀剂膜进行曝光而转印所述转印图案后，对所述抗蚀剂膜显影，由此形成的抗蚀剂图案上对应所述第1半透光部的部分和所述第2半透光部的部分具有实质相同的抗蚀剂残膜值。