发明名称 | 一种高纯度D-青霉胺的制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种高纯度D-青霉胺的制备方法,本发明制备方法包括青霉素盐的水解开环、脱羧、在非水有机溶剂中与苯肼的亲核反应等步骤,制备的D-青霉胺含量在99.0%以上。本发明公开的工艺合成D-青霉胺,具有纯度高、收率高、工艺简单等优点,适合于工业化生产。 | ||
申请公布号 | CN102627592A | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
申请号 | CN201210070200.5 | 申请日期 | 2012.03.16 |
申请人 | 石家庄学院 | 发明人 | 李小兵;段书德;时伟;李晶;张文娜;谷维娜 |
分类号 | C07C323/58(2006.01)I;C07C319/02(2006.01)I | 主分类号 | C07C323/58(2006.01)I |
代理机构 | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 13100 | 代理人 | 张素静 |
主权项 | 1.一种高纯度D-青霉胺的制备方法,其特征是包括如下反应和步骤:<img file="2012100702005100001DEST_PATH_IMAGE001.GIF" wi="581" he="228" />(1)水解反应:原料青霉素盐(Ⅰ)的水溶液,加入所述青霉素盐(Ⅰ)摩尔比1/1的强碱的水溶液水解,使四元环上的酰氨键断裂开环,再加入所述青霉素盐(Ⅰ)摩尔比1/1的强酸,转化为游离的青霉噻唑酸(Ⅱ);(2)脱羧反应:步骤(1)获得的青霉噻唑酸(Ⅱ)在有机溶剂中,65-130℃加热回流10-30小时,脱去四元环上的羧基,得到脱羧青霉噻唑酸(Ⅲ);(3)苯肼亲核反应:将步骤(2)得到的脱羧青霉噻唑酸(Ⅲ)溶于有机溶剂,加入苯肼,摩尔比为1/1-1/1.5,氮气保护,65-130℃加热回流1-2小时,降至20-25℃,过滤得D-青霉胺(Ⅳ)粗品;(4) 结晶:所述粗品加水溶解至饱和,加入3-6倍水体积的有机溶剂,0-5℃结晶,过滤干燥,得高纯度D-青霉胺,所述高纯度D-青霉胺含量大于99.0%、杂质二硫青霉胺含量0.5-0.8%。 | ||
地址 | 050035 河北省石家庄市高新区长江大道6号 |