| 发明名称 | 步进式光刻机的光罩遮掩单元 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种步进式光刻机的光罩遮掩单元，包括：光罩遮掩单元本体；四个底座，分别位于光罩遮掩单元本体的四个底角上，支撑光罩遮掩单元本体；以及四个垫片，分别设置于四个底座与光罩遮掩单元本体之间，将光罩遮掩单元本体垫高。该垫片的高度可为0.8毫米。本实用新型通过安装垫片的方法提高光罩遮掩单元的安装高度，从而缩小曝光区域，减小半阴影区域部分，提高精确度。 | ||
| 申请公布号 | CN202372752U | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
| 申请号 | CN201120452120.7 | 申请日期 | 2011.11.15 |
| 申请人 | 上海先进半导体制造股份有限公司 | 发明人 | 刘庆锋;王诚 |
| 分类号 | G03F1/62(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/62(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈亮 |
| 主权项 | 一种步进式光刻机的光罩遮掩单元，其特征在于，包括：光罩遮掩单元本体；四个底座，分别位于所述光罩遮掩单元本体的四个底角上，支撑所述光罩遮掩单元本体；以及四个垫片，分别设置于四个所述底座与所述光罩遮掩单元本体之间，将所述光罩遮掩单元本体垫高。 | ||
| 地址 | 200233 上海市徐汇区虹漕路385号 | ||