发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
本发明提供半导体装置,其能够更好地防止焊盘下面的绝缘膜产生裂缝。作为解决手段,半导体装置具有三层结构的焊盘,该三层结构的焊盘由第1金属膜、第2金属膜和第3金属膜构成,第2金属膜具有比第1金属膜和第3金属膜的杨氏模量高的杨氏模量。 |
申请公布号 |
CN102629568A |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201210026493.7 |
申请日期 |
2012.02.07 |
申请人 |
精工电子有限公司 |
发明人 |
山本祐广 |
分类号 |
H01L21/768(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
代理人 |
李辉;黄纶伟 |
主权项 |
一种半导体装置,其具有焊盘,该半导体装置具有:半导体衬底;设置于上述半导体衬底的表面的绝缘膜;设置于上述绝缘膜上的第1金属膜;设置于上述第1金属膜上的第2金属膜;设置于上述第2金属膜上的第3金属膜;以及保护膜,其在上述第3金属膜上具有开口部,在上述开口部以外的部分覆盖上述第1金属膜、上述第2金属膜和上述第3金属膜,上述第2金属膜的杨氏模量大于上述第1金属膜的杨氏模量和上述第3金属膜的杨氏模量。 |
地址 |
日本千叶县 |