发明名称 半导体装置
摘要 本发明提供半导体装置,其能够更好地防止焊盘下面的绝缘膜产生裂缝。作为解决手段,半导体装置具有三层结构的焊盘,该三层结构的焊盘由第1金属膜、第2金属膜和第3金属膜构成,第2金属膜具有比第1金属膜和第3金属膜的杨氏模量高的杨氏模量。
申请公布号 CN102629568A 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN201210026493.7 申请日期 2012.02.07
申请人 精工电子有限公司 发明人 山本祐广
分类号 H01L21/768(2006.01)I;H01L23/48(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 李辉;黄纶伟
主权项 一种半导体装置,其具有焊盘,该半导体装置具有:半导体衬底;设置于上述半导体衬底的表面的绝缘膜;设置于上述绝缘膜上的第1金属膜;设置于上述第1金属膜上的第2金属膜;设置于上述第2金属膜上的第3金属膜;以及保护膜,其在上述第3金属膜上具有开口部,在上述开口部以外的部分覆盖上述第1金属膜、上述第2金属膜和上述第3金属膜,上述第2金属膜的杨氏模量大于上述第1金属膜的杨氏模量和上述第3金属膜的杨氏模量。
地址 日本千叶县