发明名称 | 成膜装置和成膜方法 | ||
摘要 | 本发明公开了成膜装置和成膜方法。提供了能够防止通过溅射形成多种材料的薄膜时的装置机构的复杂化以简化装置机构并防止装置成本的升高的成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括:真空室;用于保持基板的基板保持器;用于分别支撑靶使得靶可在真空室内与基板相对的阴极机构;以及可各自地在由不同的材料制成的靶和基板之间前后移动以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子的挡板。挡板中的至少一个由与用于靶的材料不同的靶材料形成,使得挡板中的至少一个被配置为还用作靶的挡板。 | ||
申请公布号 | CN102628160A | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
申请号 | CN201210023612.3 | 申请日期 | 2012.02.03 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 松本诚谦;桑原世治 |
分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 康建忠 |
主权项 | 一种用于通过溅射在成膜对象上形成薄膜的成膜装置,包括:真空室;保持器部分,用于在真空室中保持成膜对象;多个阴极机构,用于分别支撑靶使得靶在真空室中与成膜对象相对;和多个挡板,能够各自地在由相互不同的材料制成的多个靶和成膜对象之间前后移动,以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子,其中,多个挡板中的至少一个由与用于多个靶的材料不同的靶材料形成,使得多个挡板中的所述至少一个被配置为还用作靶的挡板。 | ||
地址 | 日本东京 |