发明名称 THIN FILM DEPOSITION METHOD OF SILICON DIOXIDE
摘要
申请公布号 KR101171020(B1) 申请公布日期 2012.08.08
申请号 KR20090060635 申请日期 2009.07.03
申请人 发明人
分类号 C23C16/44;C23C16/40;H01L21/205 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
地址