| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板制作方法，涉及显示技术领域，包括以下步骤：S1：在基板上形成包括第一栅极的图形；S2：在步骤S1之后的基板上在所述第一栅极上方形成第二栅极，并对所述第二栅极的表面进行氧化处理形成栅绝缘层；其中，所述第一栅极和第二栅极共同形成栅极；S3：在步骤S2之后的基板上形成包括有源层、源漏电极、数据线、钝化层、像素电极的图形的层级结构。还提供了一种阵列基板和显示装置。本发明的阵列基板制作方法工艺成本低。 | ||
| 申请公布号 | CN102629592A | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
| 申请号 | CN201210080924.8 | 申请日期 | 2012.03.23 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 孙冰 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G02F1/167(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基板上形成包括第一栅极的图形；S2：在步骤S1之后的基板上在所述第一栅极上方形成第二栅极，并对所述第二栅极的表面进行氧化处理形成栅绝缘层；其中，所述第一栅极和第二栅极共同形成栅极；S3：在步骤S2之后的基板上形成包括有源层、源漏电极、数据线、钝化层、像素电极的图形的层级结构。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||