发明名称 |
一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法,以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化,该方法包括:采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀,在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞,该多个六角形空洞均具有相同的取向,该取向与石墨烯的晶向是匹配的,且刻蚀边缘具有原子级平整,边缘结构均为zigzag构型。利用本发明,克服了现有对石墨或石墨烯进行刻蚀方法存在的局限性,实现了尺寸可控、并具有原子级平整边缘的石墨烯的加工剪裁及图案化。 |
申请公布号 |
CN101996853B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN200910091395.X |
申请日期 |
2009.08.19 |
申请人 |
中国科学院物理研究所 |
发明人 |
张广宇;时东霞;杨蓉;王毅;张连昌 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法,以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化,其特征在于,该方法包括:采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀,在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞,该多个六角形空洞均具有相同的取向,该取向与石墨烯的晶向是匹配的,且刻蚀边缘具有原子级平整,边缘结构均为zigzag构型。 |
地址 |
100080 北京市海淀区中关村南三街8号 |