发明名称 一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法
摘要 本发明公开了一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法,以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化,该方法包括:采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀,在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞,该多个六角形空洞均具有相同的取向,该取向与石墨烯的晶向是匹配的,且刻蚀边缘具有原子级平整,边缘结构均为zigzag构型。利用本发明,克服了现有对石墨或石墨烯进行刻蚀方法存在的局限性,实现了尺寸可控、并具有原子级平整边缘的石墨烯的加工剪裁及图案化。
申请公布号 CN101996853B 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN200910091395.X 申请日期 2009.08.19
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 张广宇;时东霞;杨蓉;王毅;张连昌
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法,以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化,其特征在于,该方法包括:采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀,在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞,该多个六角形空洞均具有相同的取向,该取向与石墨烯的晶向是匹配的,且刻蚀边缘具有原子级平整,边缘结构均为zigzag构型。
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