发明名称 气态样品富集、脱附装置
摘要 本发明公开了一种气态样品富集、脱附装置,它包括:加热炉、半导体致冷块和采样管及其填充的吸附剂,在所述加热炉的一端连接有半导体致冷块,所述加热炉和半导体致冷块可滑动地设置在一导轨上,在加热炉或半导体致冷块的外端连接一动力装置,以推拉所述加热炉和半导体致冷块在该导轨上往复移动,在加热炉和所述半导体致冷块内各设有一通道,该两个通道贯穿连通,采样管设置在所述加热炉和所述半导体致冷块形成的所述通道内。本发明所得到的气态样品富集、脱附装置采用了低温采样技术,提高了样品采集效率;实现了样品富集、脱附依次在短时间内完成,提高了分析效率,降低了分析成本;功耗小,重量轻,结构紧凑,特别适合便携式气相色谱的应用。
申请公布号 CN101672833B 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN200910091410.0 申请日期 2009.08.20
申请人 北京市劳动保护科学研究所 发明人 丁辉;赵寿堂;朱佐刚;胡玢;靳江红;王栋;朱小锋
分类号 G01N30/06(2006.01)I;G01N30/08(2006.01)I 主分类号 G01N30/06(2006.01)I
代理机构 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人 陈英
主权项 一种气态样品富集、脱附装置,其特征在于:它包括:加热炉、半导体致冷块和采样管,所述采样管中填充吸附剂,在所述加热炉的一端连接有半导体致冷块,在所述加热炉和所述半导体致冷块内各设有一通道,该两个通道贯穿连通,所述采样管能够在所述加热炉和所述半导体致冷块形成的通道内移动或静置;所述加热炉和半导体致冷块可滑动地设置在一导轨上,在所述加热炉的另一端或半导体致冷块的外端连接一牵拉装置,以推拉所述加热炉和半导体致冷块,使得所述加热炉和半导体致冷块与所述采样管相对的往复移动,所述采样管在所述通道中静置,从而使得采样管交替地置于所述加热炉的所述通道中和置于所述半导体致冷块的所述通道中;或者,所述采样管可移动地设置在一导轨上,在所述采样管上连接一牵拉装置,以推拉所述采样管,使得所述加热炉和半导体致冷块与所述采样管相对的往复移动,从而使得采样管交替地置于所述加热炉的所述通道中和置于所述半导体致冷块的所述通道中。
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