发明名称 | 一种提高芯片亮度的方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种提高芯片亮度的方法,该方法使用清洗溶液去除激光划片后产生的灰尘。清洗溶液组成成分为强碱、醇和蒸馏水。其中强碱可以为氢氧化钾,醇可以为乙醇。清洗溶液中的成分比例可以根据实际需要的效果进行改变。提高芯片亮度的方法的具体步骤为:首先使用无尘布蘸取清洗溶液,擦拭芯片背面后,使用纯水对芯片进行进一步的洁净,去除多余的离子。本发明所对应溶液的方法主要应用于紫外激光划片后灰尘的去除。本发明的优点在于:对于芯片的去除效果相对于直接利用无尘布擦拭的工艺好。成本低廉,本发明对应的方法还可以降低芯片倒膜过程中掉晶的风险和提高芯片封装后固晶的强度。 | ||
申请公布号 | CN102626699A | 申请公布日期 | 2012.08.08 |
申请号 | CN201210122450.9 | 申请日期 | 2012.04.25 |
申请人 | 华灿光电股份有限公司 | 发明人 | 宋超;刘榕;张建宝 |
分类号 | B08B3/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/08(2006.01)I |
代理机构 | 江西省专利事务所 36100 | 代理人 | 胡里程 |
主权项 | 一种提高芯片亮度的方法,其特征在于:该方法使用清洗溶液去除激光划片后产生的灰尘。 | ||
地址 | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区滨湖路8号 |