发明名称 |
“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法 |
摘要 |
一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层。 |
申请公布号 |
CN102157903B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201110027237.5 |
申请日期 |
2011.01.25 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
迂修;张宇;王国伟;徐应强;徐云;宋国峰 |
分类号 |
H01S5/343(2006.01)I;C30B25/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/343(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层;其中该10个周期的“W”结构二类量子阱有源区的每个周期包括:一Al0.35Ga0.658b垒层,在Al0.35Ga0.65Sb垒层上依次生长有Inas电子阱层、InSb过渡层、空穴阱层、InSb过渡层、InAs电子阱层和Al0.35Ga0.65Sb垒层,该InSb过渡层和InSb过渡层形成InSb界面,同时抑制GaAs界面的产生。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |