发明名称 “W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法
摘要 一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层。
申请公布号 CN102157903B 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN201110027237.5 申请日期 2011.01.25
申请人 中国科学院半导体研究所 发明人 迂修;张宇;王国伟;徐应强;徐云;宋国峰
分类号 H01S5/343(2006.01)I;C30B25/20(2006.01)I 主分类号 H01S5/343(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤保平
主权项 一种“W”型锑化物二类量子阱的外延生长方法,包括如下步骤:步骤1:选择一衬底;步骤2:对该衬底进行脱氧除气处理并观察表面再构;步骤3:在该衬底上依次生长缓冲层、10个周期的“W”结构二类量子阱有源区和GaSb盖层;其中该10个周期的“W”结构二类量子阱有源区的每个周期包括:一Al0.35Ga0.658b垒层,在Al0.35Ga0.65Sb垒层上依次生长有Inas电子阱层、InSb过渡层、空穴阱层、InSb过渡层、InAs电子阱层和Al0.35Ga0.65Sb垒层,该InSb过渡层和InSb过渡层形成InSb界面,同时抑制GaAs界面的产生。
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号
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