发明名称 |
用于对样本成像的方法和系统 |
摘要 |
本发明提供了一种用于对样本成像的方法,该方法至少包括:利用第一标记物材料以及利用第二标记物材料对样本染色;在相对于样本聚焦成像设备的聚焦步骤中采用第一标记物材料;以及-在成像步骤中采用第二标记物材料以及已经在聚焦步骤中聚焦的成像设备,以便获取样本的图像。本发明也涉及用于对样本成像的系统。 |
申请公布号 |
CN101821608B |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN200880100713.8 |
申请日期 |
2008.07.23 |
申请人 |
皇家飞利浦电子股份有限公司 |
发明人 |
R·W·I·德博尔;B·H·W·亨德里克斯 |
分类号 |
G01N21/64(2006.01)I;G02B21/00(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/64(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘鹏;谭祐祥 |
主权项 |
一种用于对样本成像的方法,至少包括:‑利用第一标记物材料以及利用第二标记物材料对样本染色;‑在用于相对于样本聚焦成像设备的聚焦步骤中采用第一标记物材料;以及‑在成像步骤中采用第二标记物材料以及已经在聚焦步骤中聚焦的成像设备,以便获取样本的图像,其中在聚焦步骤中使用不使第二标记物材料退化的第一种类型的辐射照射样本以便检测第一标记物材料,其中在成像步骤中使用使第二标记物材料退化的第二种类型的辐射照射样本以便检测第二标记物材料,并且其中第一标记物材料和第二标记物材料被设计成对相同的样本成分或样本结构加标签。 |
地址 |
荷兰艾恩德霍芬 |