发明名称 阵列基板及其制造方法、液晶显示器件
摘要 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、液晶显示器件,涉及液晶显示技术领域,为提高像素开口率而发明。所述阵列基板,包括基板,所述基板上设有栅线,垂直于所述栅线设有数据线,所述栅线和所述数据线之间限定有像素区域,所述像素区域内设有薄膜晶体管和像素电极,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接、源极与所述数据线连接、漏极与所述像素电极连接,所述像素电极所在的层与所述数据线所在的层之间设有树脂介电层。本发明可用于进行液晶显示。
申请公布号 CN102629046A 申请公布日期 2012.08.08
申请号 CN201110175220.4 申请日期 2011.06.29
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 郭建;闵泰烨;陈旭;谢振宇;张文余
分类号 G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1362(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板,包括基板,所述基板上设有栅线,垂直于所述栅线设有数据线,所述栅线和所述数据线之间限定有像素区域,所述像素区域内设有薄膜晶体管和像素电极,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接、源极与所述数据线连接、漏极与所述像素电极连接,其特征在于,所述像素电极所在的层与所述数据线所在的层之间设有树脂介电层。
地址 100176 北京市北京经济技术开发区西环中路8号