发明名称 |
阵列基板及其制造方法、液晶显示器件 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、液晶显示器件,涉及液晶显示技术领域,为提高像素开口率而发明。所述阵列基板,包括基板,所述基板上设有栅线,垂直于所述栅线设有数据线,所述栅线和所述数据线之间限定有像素区域,所述像素区域内设有薄膜晶体管和像素电极,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接、源极与所述数据线连接、漏极与所述像素电极连接,所述像素电极所在的层与所述数据线所在的层之间设有树脂介电层。本发明可用于进行液晶显示。 |
申请公布号 |
CN102629046A |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201110175220.4 |
申请日期 |
2011.06.29 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
郭建;闵泰烨;陈旭;谢振宇;张文余 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板,包括基板,所述基板上设有栅线,垂直于所述栅线设有数据线,所述栅线和所述数据线之间限定有像素区域,所述像素区域内设有薄膜晶体管和像素电极,所述薄膜晶体管的栅极与所述栅线连接、源极与所述数据线连接、漏极与所述像素电极连接,其特征在于,所述像素电极所在的层与所述数据线所在的层之间设有树脂介电层。 |
地址 |
100176 北京市北京经济技术开发区西环中路8号 |