发明名称 |
阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示器 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板制作方法、阵列基板及液晶显示器,用以提高TFT-LCD的画面质量。该方法包括:形成至少包含有栅极、栅绝缘层、有源层、源漏电极和像素电极的基板;在所述基板上形成平坦层;在所述平坦层上形成凹槽;以及,在所述凹槽内设置第一支撑物。 |
申请公布号 |
CN102629583A |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201110361851.5 |
申请日期 |
2011.11.15 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
木素真 |
分类号 |
H01L21/77(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/77(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:形成至少包含有栅极、栅绝缘层、有源层、源漏电极和像素电极的基板;在所述基板上形成平坦层;在所述平坦层上形成凹槽;以及,在所述凹槽内设置第一支撑物。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |