发明名称 Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung desselben
摘要 Halbleiterbauelement, wobei das Halbleiterbauelement (1) umfasst: – einen Halbleiterkörper (4) mit: – einer ersten Elektrode (5), – einer zweiten Elektrode (7), – einer lateralen Driftstrecke (9) zwischen der ersten und der zweiten Elektrode (5, 7), wobei in die Driftstrecke (9) isolierte nebeneinander angeordnete Feldplatten (F1) lateral ausgerichtet vertikal hineinragen, – floatende komplementär zur Driftstrecke (9) dotierte Gebiete (10), die mit den Feldplatten (F1) elektrisch verbunden sind, wobei die Feldplatten mit einer Feldplatten-Spannungsbegrenzungsstruktur (3), die die Spannung an den Feldplatten im Sperrbetrieb begrenzt, gekoppelt sind.
申请公布号 DE102007013848(B4) 申请公布日期 2012.08.02
申请号 DE200710013848 申请日期 2007.03.20
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG 发明人 HIRLER, FRANZ, DR. RER. NAT.;FALCK, ELMAR, DR.-ING.
分类号 H01L29/78;H01L21/331;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/739 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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