发明名称 内嵌电极之多阶沟渠式电场屏护功率金氧半场效电晶体结构
摘要 一种内嵌电极之多阶沟渠式电场屏护功率金氧半场效电晶体(MOSFET)结构,其系由复数单位晶胞(Unit cell)所组成,且在每一单位晶胞中的各沟渠式(trench)结构下,又进一步提供具有电场屏护的复数多阶沟渠(multi-step trench)结构,用以形成可提供高崩溃电压与低漏电流的一种高可靠性元件。其中,该等单位晶胞之任其一者的结构包含基板、磊晶层、具有复数多阶闸极沟渠之闸极沟渠单元、具有复数多阶源极沟渠之源极沟渠单元、第一屏护井区、第二屏护井区、基体接面、源极接面与绝缘层。其中,该等多阶闸(或源)极沟渠的宽度系分别地窄于或等于该第一闸(或源)极沟渠的宽度。故藉由本新型可用以降低漏电流及加强雪崩能量的耐受度。
申请公布号 TWM435046 申请公布日期 2012.08.01
申请号 TW101204813 申请日期 2012.03.16
申请人 马克斯半导体股份有限公司 美国 发明人 穆罕默德 恩 达维希;曾军;苏世宗
分类号 H01L29/24 主分类号 H01L29/24
代理机构 代理人 赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼;李政宪 台北市信义区东兴路37号9楼;王立成 台北市信义区东兴路37号9楼
主权项
地址 美国