发明名称 一维ZnO/SnO<sub>2</sub>核壳结构纳米异质结半导体材料的制备方法
摘要 本发明公开了一种一维ZnO/SnO2核壳结构纳米异质结半导体材料的制备方法。该方法采用热蒸发法在一维ZnO纳米材料上包覆SnO2制备一维ZnO/SnO2核壳结构纳米异质结半导体材料。该方法重复性高、可控性强、环境友好,且SnO2包覆均匀。制备出的ZnO/SnO2一维核壳结构纳米异质结材料在太阳能电池、气体传感器以及光催化等领域中具有广泛的研究价值和应用前景。
申请公布号 CN102618849A 申请公布日期 2012.08.01
申请号 CN201210068382.2 申请日期 2012.03.15
申请人 中国科学院理化技术研究所 发明人 孟祥敏;黄兴
分类号 C23C16/448(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C04B35/628(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C23C16/448(2006.01)I
代理机构 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人 张文祎
主权项 一种一维ZnO/SnO2核壳结构纳米异质结半导体材料的制备方法,其特征在于,采用热蒸发法在一维ZnO纳米材料上包覆SnO2制备一维ZnO/SnO2核壳结构纳米异质结半导体材料,具体包括以下步骤:1) 取SnO粉末放入陶瓷舟中,然后将其放在管式炉的高温加热区,所述SnO粉的纯度不低于99.90%; 2) 将载有一维ZnO纳米材料的衬底放在管式炉的低温沉积区;3) 打开机械泵,待炉内压强降至0.1 Pa时,将10~100 sccm的气体通入管式炉中,控制其压强在50~500 Pa,其中,所述气体中含有体积百分含量为90%~100%的不活泼气体和0~10%的氢气; 4) 将管式炉高温区升至800~1050℃,升温速度为15~25℃/min;低温区升至550~650℃,升温速度为15~25℃/min,反应时间为0.5~2小时; 5) 反应结束,衬底上得到了一维ZnO/SnO2核壳结构纳米异质结半导体材料。
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