发明名称 Positive photoresist composition
摘要
申请公布号 EP1798596(B1) 申请公布日期 2012.08.01
申请号 EP20060256335 申请日期 2006.12.13
申请人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 发明人 YAMAGUCHI, HIROMASA;KATO, HIDETO
分类号 G03F7/004;G03F7/022;G03F7/075 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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