发明名称 |
高可靠SOI LDMOS功率器件 |
摘要 |
公开了一种高可靠SOI LDMOS功率器件,包括:在SOI LDMOS功率器件的顶层硅中,注入有高浓度的埋层和接触注入区,且埋层与接触注入区连接;通过所述埋层可充分抽取SOI LDMOS功率器件中SOI LDMOS栅附近的载流子,并经所述接触注入区引出,控制SOI LDMOS栅附近的电位。本发明提供的高可靠SOI LDMOS功率器件,在SOI LDMOS的顶层硅中,制成高浓度的埋层并通过接触注入区引出,利用此埋层充分抽取SOI LDMOS器件SOI LDMOS栅附近的载流子,控制SOI LDMOS栅附近电位,避免由噪声电流或者碰撞电流引起的寄生晶体管开启而导致的LDMOS器件损伤或烧毁,同时抬升了LDMOS器件在静电冲击下的维持电压,扩展了LDMOS功率器件的电学安全工作区域,增强了器件可靠性。 |
申请公布号 |
CN102623506A |
申请公布日期 |
2012.08.01 |
申请号 |
CN201210103676.4 |
申请日期 |
2012.04.10 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
姜一波;杜寰 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘丽君 |
主权项 |
一种高可靠SOI LDMOS功率器件,其特征在于,包括:在SOI LDMOS功率器件的顶层硅中,注入有高浓度的埋层和接触注入区,且埋层与接触注入区连接;通过所述埋层可充分抽取SOI LDMOS功率器件中SOI LDMOS栅附近的载流子,并经所述接触注入区引出,控制SOI LDMOS栅附近的电位。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |