发明名称 高可靠SOI LDMOS功率器件
摘要 公开了一种高可靠SOI LDMOS功率器件,包括:在SOI LDMOS功率器件的顶层硅中,注入有高浓度的埋层和接触注入区,且埋层与接触注入区连接;通过所述埋层可充分抽取SOI LDMOS功率器件中SOI LDMOS栅附近的载流子,并经所述接触注入区引出,控制SOI LDMOS栅附近的电位。本发明提供的高可靠SOI LDMOS功率器件,在SOI LDMOS的顶层硅中,制成高浓度的埋层并通过接触注入区引出,利用此埋层充分抽取SOI LDMOS器件SOI LDMOS栅附近的载流子,控制SOI LDMOS栅附近电位,避免由噪声电流或者碰撞电流引起的寄生晶体管开启而导致的LDMOS器件损伤或烧毁,同时抬升了LDMOS器件在静电冲击下的维持电压,扩展了LDMOS功率器件的电学安全工作区域,增强了器件可靠性。
申请公布号 CN102623506A 申请公布日期 2012.08.01
申请号 CN201210103676.4 申请日期 2012.04.10
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 姜一波;杜寰
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 刘丽君
主权项 一种高可靠SOI LDMOS功率器件,其特征在于,包括:在SOI LDMOS功率器件的顶层硅中,注入有高浓度的埋层和接触注入区,且埋层与接触注入区连接;通过所述埋层可充分抽取SOI LDMOS功率器件中SOI LDMOS栅附近的载流子,并经所述接触注入区引出,控制SOI LDMOS栅附近的电位。
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