| 发明名称 | 化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺，属于航天纤维制备工艺领域，其特征在于：采用硅源气体和氮源气体的混合气体作为反应气体，当反应室温度达到400℃时，通入反应气体，在500-1000℃下，压力在0.5-5Kpa，通过调节反应温度、气体流量和压力控制物质沉积的速度，使得氮化硼纤维界面层致密、均匀，涂层厚度为0.8-3.0μm。利用化学气相沉积工艺，采用低温、低压制备氮化硼纤维界面层，使得氮化硼纤维界面层致密、均匀，沉积的纳米级氮化硅颗粒一方面填充了纤维表面的裂缝，增强了纤维的强度。 | ||
| 申请公布号 | CN102619081A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201210091721.9 | 申请日期 | 2012.03.31 |
| 申请人 | 中材高新材料股份有限公司;山东工业陶瓷研究设计院有限公司 | 发明人 | 张铭霞;王重海;程之强;徐鸿照;唐杰;李传山;唐建新;黄健 |
| 分类号 | D06M11/77(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C04B35/80(2006.01)I | 主分类号 | D06M11/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人 | 马俊荣 |
| 主权项 | 一种化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺，其特征在于：采用硅源气体和氮源气体的混合气体作为反应气体，当反应室温度达到400℃时，通入反应气体，在500‑1000℃下，压力在0.5‑5Kpa，通过调节反应温度、气体流量和压力控制物质沉积的速度，使得氮化硼纤维界面层致密、均匀，涂层厚度为0.8‑3.0μm。 | ||
| 地址 | 255086 山东省淄博市高新区裕民路258号 | ||