| 发明名称 | 灰化装置 | ||
| 摘要 | 一种防止处理效率随时间下降的灰化装置。所述灰化装置对基底(W)上的有机材料进行灰化，所述基底包括在处理室(11)中曝露的金属。所述灰化装置包括形成在所述处理室(11)中的路径，活性物种通过所述路径供给至所述腔室(11)。通过所述活性物种而从所述基底(W)散射之金属可聚集于其上的表面(11a；31a；33a；33b)界定出所述路径，所述表面形成为所曝露的金属与从所述基底曝露之金属种类相同。 | ||
| 申请公布号 | CN101568998B | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN200880001266.0 | 申请日期 | 2008.10.29 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 植田昌久;栗本孝志;中村久三;邹弘纲;余吾锐哉;小松一茂;橘信介 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人 | 段迎春 |
| 主权项 | 一种对基底上的有机材料进行灰化的灰化装置，所述基底包括在处理室中曝露的金属，所述灰化装置包括：在所述处理室中保持所述基底的台；附接至所述处理室上部的内表面的扩散板，所述扩散板朝向所述台，并且与所述处理室的内表面形成间隙，其中所述扩散板扩散通过所述间隙供给至所述处理室的活性物种，并且所述扩散板包括所述活性物种穿过的通孔；其中，通过所述活性物种而从所述基底散射之金属聚集在朝向所述基底的所述处理室上部的所述内表面上和朝向所述基底的所述扩散板的下表面上，其中所述处理室上部的所述内表面和所述扩散板的下表面由与从所述基底散射的金属种类相同的金属构成，使得无论从所述基底散射之金属是否聚集，都基本保持失活活性物种数量不变。 | ||
| 地址 | 日本国神奈川县 | ||