| 发明名称 | 一种立式原子层沉积设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种立式原子层沉积设备，属于原子层沉积设备技术领域。该设备包括主腔室和送片机构，送片机构设置于主腔室的外部，送片机构将硅片从主腔室外部送入到主腔室内部。该设备避免了由于送片机构的导轨磨损产生金属碎末而对成片质量造成影响。 | ||
| 申请公布号 | CN102618848A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201210136078.7 | 申请日期 | 2012.05.04 |
| 申请人 | 嘉兴科民电子设备技术有限公司 | 发明人 | 刘传钦;屈芙蓉;李超波 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人 | 刘丽君 |
| 主权项 | 一种立式原子层沉积设备，包括主腔室和送片机构，其特征在于，所述送片机构设置于所述主腔室的外部，所述送片机构将硅片从所述主腔室外部送入到所述主腔室内部。 | ||
| 地址 | 314006 浙江省嘉兴市南湖区凌公塘路3339号（嘉兴科技城）综合楼A座213室 | ||