| 发明名称 | 一种尖劈型超透镜的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。 | ||
| 申请公布号 | CN102621803A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201210107639.0 | 申请日期 | 2012.04.13 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;冯沁;刘凯鹏;胡承刚;黄成;杨磊磊;陶兴;张鸶懿 |
| 分类号 | G03F1/80(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I | 主分类号 | G03F1/80(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人 | 杨学明;顾炜 |
| 主权项 | 一种尖劈型超透镜的制备方法，其特征在于：该方法的步骤如下：步骤(1)在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；步骤(2)在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；步骤(3)将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；步骤(4)用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；步骤(5)倾斜蒸镀金属/介质膜层交替组成的多层膜；步骤(6)去除牺牲层和附着在牺牲层上的掩蔽层，得到位于紫外透明基底上的尖劈型超透镜。 | ||
| 地址 | 610209 四川省成都市双流350信箱 | ||