| 主权项 |
一种用于光刻机浸没控制装置，在光刻机的投影透镜组末端元件(1)和待刻硅片(3)间设置的该浸没控制装置(2)，其特征在于：所述的浸没控制装置(2)包括：盖板(5)、外构件(6)和内构件(7)，盖板(5)为环形板，其上由中心向外沿径向依次开有注液口(17)、出液口(20)、进气口(8)；外构件(6)为带有阶梯形状的环形板；内构件(7)为环形板，其外侧为阶梯形状，外构件(6)与内构件(7)的阶梯形状相配合，共同构成储气槽(9)和狭缝(10)，内侧为与投影透镜组末端元件(1)形状相匹配的锥形，其下部沿径向向外依次开有：出液下环槽(15)、环形均压槽(11)，内构件(7)的环形均压槽(11)内固定有弹性元件(12)，内构件(7)的出液下环槽内(15)固定有多孔介质(16)，其上部沿径向向外依次开有扇形槽(19)、注液孔(17)、出液上环槽(13)，其中出液上环槽(13)与出液下环槽(15)通过均布的通孔(14)连接；浸没液体(4)经注液口(17)、注液孔(18)进入扇形槽(19)，沿扇形槽(19)的边缘填充投影透镜组末端元件(1)和硅片(3)间的间隙；出液口(20)连接真空低压，当浸没液体流经多孔介质(16)时经出液下环槽(15)、通孔(14)进入出液上环槽，再被真空吸附经出液口(17)流出该浸没曝光装置(2)；外部加压气体经进气口(8)注入储气槽(9)，再经狭缝(10)进入该浸没控制装置(2)下表面和硅片(3)间的间隙形成边缘狭缝气密封。 |
