| 发明名称 | 适用于化学机械抛光的浆料及方法 | ||
| 摘要 | 一种化学机械抛光的浆料，其包含分散于去离子水中的研磨料，以及有机粘度改进剂，所添加的粘度改进剂用于将浆料的粘度调整至0.5～3.2cps的范围内。 | ||
| 申请公布号 | CN102618172A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201210037449.6 | 申请日期 | 2007.05.10 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 崔容寿;崔在建;金奎显 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光的浆料，其包括：浆料，其含有分散在去离子水中的研磨料；以及有机粘度改进剂，所添加的粘度改进剂用于将浆料的粘度调整至0.5～3.2cps的范围内。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||