发明名称 |
一种用于非色散型光谱气体分析仪的光源制备方法 |
摘要 |
本发明属于光源制作领域,为了解决现有技术中存在的光谱法气体分析仪只能在低频下工作所导致的系统信噪比较差及检测灵敏度较低的技术问题,本发明提出了一种用于非色散型光谱气体分析仪的光源制备方法,该方法通过热绝缘薄膜的制备,电极压焊块薄膜的制备,热阻薄膜的制备,光源芯片的制备,光源芯片与光源信号处理电路的集成,光源的制备等步骤完成,采用该方法制作的光源能在高频条件下工作,能够在基于光谱吸收原理的非色散型气体分析仪的设计及制作中使用,进而在有毒有害气体的在线监测领域得到应用。 |
申请公布号 |
CN102621109A |
申请公布日期 |
2012.08.01 |
申请号 |
CN201210056877.3 |
申请日期 |
2012.03.06 |
申请人 |
昆明斯派特光谱科技有限责任公司 |
发明人 |
李永辉;易宏;黄家新 |
分类号 |
G01N21/61(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/61(2006.01)I |
代理机构 |
北京理工大学专利中心 11120 |
代理人 |
李爱英;郭德忠 |
主权项 |
一种用于非色散型光谱气体分析仪的光源制备方法,其特征在于:该方法实现的步骤如下:步骤一:在基体上制备热绝缘薄膜;步骤二:在热绝缘薄膜上制备电极压焊块;步骤三:在两电极压焊块之间的热绝缘薄膜上,制备无定形碳或碳化硅薄膜作为热阻薄膜,并采用干发及湿发腐蚀法完成图形化;步骤四:对步骤一至步骤三所制成的多个光源芯片进行划片,将划片后的光源芯片与处理电路连接并进行封装,即完成了多个光源的制作。 |
地址 |
651060 云南省昆明市高新区科业路新宏巷39号 |