发明名称 | 喷嘴设备和化学气相沉积反应器 | ||
摘要 | 本发明描述了一种在CVD反应器中使用的喷嘴设备。该喷嘴设备具有喷嘴本体和至少一个控制单元,喷嘴本体具有入口、出口和位于它们之间的流动空间,控制单元包含控制部分和设定部分,其中,控制部分以可运动的方式布置在流动空间内,在流动空间内限定了流动横截面,流动横截面足够小以在气体流经喷嘴体时于控制部分产生压力损失,该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分。设定部分随控制部分一起运动且包含至少一个如下部分:它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面。此外,提供至少一个偏置元件,它在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。此外,描述了一种CVD反应器,它具有限定了工艺空间的工艺室。工艺室包含在其底壁上的至少一个通孔,而上述类型的喷嘴设备至少部分地被接纳在通孔内。 | ||
申请公布号 | CN102618850A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
申请号 | CN201110463154.0 | 申请日期 | 2011.12.23 |
申请人 | 森托塞姆硅技术有限公司 | 发明人 | M·雷克 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 朱立鸣 |
主权项 | 在CVD反应器内使用的喷嘴设备,包括:喷嘴本体,该喷嘴本体具有入口、出口和位于入口和出口之间的流动空间;至少一个控制单元,该至少一个控制单元具有控制部分和设定部分,其中,控制部分以可运动的方式配置在流动空间内,且控制部分限定了流动空间内的流动横截面,流动横截面足够小,以在气体流经喷嘴体时于控制部分处产生压力损失,该压力损失在流动空间内朝向出口偏置控制部分,其中,设定部分可与控制部分一起运动且包含这样一个部分:它随设定部分的运动而改变出口的流动横截面;以及至少一个偏置元件,该偏置元件在流动空间内向远离出口的方向偏置控制部分。 | ||
地址 | 德国布劳博伊伦 |