一种氮化镓晶体抛光的方法

摘要

本发明公开了一种氮化镓晶体抛光的方法，所述方法包括以下步骤：将氮化镓晶片粘贴在石英板上；用研磨机对粘贴在石英板上的氮化镓晶片进行研磨；对抛光液进行加热升温，用紫外光照射抛光的氮化镓晶片，用抛光机对研磨后的氮化镓晶片进行化学机械抛光。本发明在传统的氮化镓晶片化学机械抛光的基础上，使用了紫外光对其晶片进行照射，同时使用了自制水浴加热系统对抛光液进行升温，提高了化学机械抛光过程中的化学反应速率，再通过重物重量的调节，使得物理去除作用和化学作用达到平衡，不仅解决了氮化镓晶体难抛光的问题，提高了N面和Ga面去除速率，也获得了令人满意的光亮表面。本发明方法成本明显更低，工艺实施简单，并且有效的提高了抛光效率。

主权项

一种氮化镓晶体抛光的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将氮化镓晶片粘贴在石英板上；用研磨机对粘贴在石英板上的氮化镓晶片进行研磨；把抛光垫贴在抛光盘上，用环型重物把贴有氮化镓晶片的石英板压在抛光垫上，使紫外光从环形重物上方透过，照在氮化镓晶片上，对抛光液加热；启动抛光机，使研磨盘旋转进而带动氮化镓晶片以及环型重物旋转进行抛光；其中，环型重物的压力为100‑500g/cm2。