一种TFT阵列基板像素点修复制造方法

摘要

本发明涉及一种TFT阵列基板像素点修复制造工艺，对己经制作完成的存在点缺陷的TFT阵列基板像素进行单点修复，首先对TFT阵列基板点缺陷处位置精确定位，再采用激光切割方式将存在点缺陷像素切割且移除，再将采用微机械加工工艺制作完成的单个TFT点像素填补至此位置并定位精确，再采用电气层自组装方式将各层膜层分别连接起来，完成此TFT点像素与TFT阵列基板电气性能的连接。采用本发明的方法，可以使存在缺陷的样品再利用，大大提高工业生产的良率，降低生产制造成本。

主权项

一种TFT阵列基板像素点修复制造方法，其特征在于，TFT阵列基板像素点修复分为两个步骤：①首先是转移用TFT点像素制造及准备工艺制备TFT点像素(20)，②其次是对TFT阵列基板TFT缺陷点进行修复。