发明名称 作为GPR受体激动剂的双环杂芳基化合物及其组合物和应用
摘要 本发明公开了一类由通式(I)表示的双环杂芳基化合物、包含这些化合物的药物组合物及其调控GPR119的活性并在制备治疗与代谢相关病症的药物中的应用以及治疗与代谢相关病症的方法。<img file="dda0000046431990000011.GIF" wi="486" he="301" />
申请公布号 CN102617548A 申请公布日期 2012.08.01
申请号 CN201110034156.8 申请日期 2011.01.31
申请人 北京赛林泰医药技术有限公司 发明人 校登明;朱岩;胡远东;王虎庭;刘昱良;李继军;孙德广;王哲;魏永恒;王赞平;唐国静;荆禄涛
分类号 C07D401/04(2006.01)I;C07D471/04(2006.01)I;C07D401/14(2006.01)I;C07D413/14(2006.01)I;A61K31/454(2006.01)I;A61K31/506(2006.01)I;A61P3/00(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P3/08(2006.01)I;A61P5/50(2006.01)I;A61P3/06(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I 主分类号 C07D401/04(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 吴小瑛;吕俊清
主权项 1.式(I)表示的化合物或其药学上可接受的盐、溶剂化物、多晶型物、互变异构体或前药,<img file="FDA0000046431970000011.GIF" wi="479" he="302" />其中:R<sup>1</sup>是未取代的或被一个或多个取代基取代的芳基,所述取代基选自如下基团:卤素、低级烷基、烷氧基、-OCF<sub>3</sub>、烷氧基羰基、氰基、-NHC(O)-烷基、-SO<sub>2</sub>-烷基、-SO<sub>2</sub>-环烷基、-SO<sub>2</sub>NH<sub>2</sub>、-SO<sub>2</sub>NH-烷基、-N(烷基)-SO<sub>2</sub>-烷基、-C(O)-烷基、-NO<sub>2</sub>、-NHS(O)<sub>2</sub>-烷基、-SO<sub>2</sub>N-(烷基)<sub>2</sub>、-CONH-烷基、-CON-(烷基)<sub>2</sub>、-S(O)-烷基、-S(O)-环烷基、-C(O)NH<sub>2</sub>、三唑、四唑、乙酰-哌嗪、未取代的单环杂芳基和被烷基取代的单环杂芳基;1,1-二氧代-2,3-二氢-1H-1-苯并[b]苯硫基;未取代的或被一个或多个取代基取代的单环杂芳基,所述取代基选自以下基团:卤素、SO<sub>2</sub>-烷基、SO<sub>2</sub>-环烷基、低级烷基、三唑、四唑、具有选自N、O和S的一个或两个杂原子的单环杂芳基;氧代(oxo)、烷氧基、氰基和羟基;未取代的或被一个或多个取代基取代的吲哚,所述取代基选自以下基团:低级烷基、氧代、三唑、四唑、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;未取代的或被一个或多个取代基取代的苯并[1,3]间二氧杂环戊烯,所述取代基选自以下基团:烷基、三唑、四唑、氧代、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;未取代的或被一个或多个取代基取代的喹啉,所述取代基选自以下基团:低级烷基、氧代、三唑、四唑、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;未取代的或被一个或多个取代基取代的吡咯并[2,3-b]吡啶,所述取代基选自以下基团:低级烷基、氧代、三唑、四唑、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;未取代的或被一个或多个取代基取代的苯并噻吩,所述取代基选自以下基团:低级烷基、氧代、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;或未取代的或被一个或多个取代基取代的二氧代苯并噻吩,所述取代基选自以下基团:低级烷基、氧代、三唑、四唑、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;R<sup>2</sup>是未取代的或被一个或多个取代基取代的苯甲基,所述取代基选自以下基团:氰基、烷氧基、卤素、羟基、OCF<sub>3</sub>和CF<sub>3</sub>;C(O)-O-烷基,所述烷基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;C(O)-O-(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-环烷基,所述环烷基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;C(O)-O-(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-苯基,所述苯基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、CF<sub>3</sub>、氰基和NO<sub>2</sub>;未取代的或被一个或多个取代基取代的杂芳基,所述取代基选自以下基团:卤素、低级烷基、环烷基和烷氧基;(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-杂芳基,其中所述杂芳基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基、环烷基和烷氧基;C(O)-低级烷基,所述烷基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;C(O)(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-环烷基,所述环烷基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;C(O)(CH<sub>2</sub>)<sub>n</sub>-苯基,所述苯基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素和烷氧基;C(O)-杂芳基,所述杂芳基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;C(O)-芳基,所述芳基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自:卤素、低级烷基和烷氧基;CH<sub>2</sub>-二氟苯并间二氧杂环戊烯,其未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自以下基团:烷基、三唑、四唑、氧代、SO<sub>2</sub>-烷基和SO<sub>2</sub>-环烷基;或SO<sub>2</sub>-低级烷基,所述烷基未被取代或被一个或多个取代基取代,所述取代基选自以下基团:卤素、低级烷基和烷氧基;n是0、1或2;X、Y、Z、V和W独立地选自N或CR<sup>3</sup>;并且R<sup>3</sup>是氢、卤素、低级烷基、羟基或烷氧基。
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