<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Behandlung von Schichten mit einer gegenüber dem äußeren Atmosphärendruck abgeschlossenen Plasma-Zone. Die Vorrichtung umfasst einen Plasma-Reaktor mit einem Substratträger in Gestalt einer Behälteraufnahmevorrichtung und ein Schließelement, das mit dem Substratträger über eine Hubvorrichtung verbunden wird.</p>
