发明名称 Fotodiodenbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
摘要 Das Fotodiodenbauelement besitzt eine elektrisch leitfähige Kathodenschicht (3) an einer Fotodiodenschicht (4) aus einem Halbleitermaterial. Dotierte Anodenbereiche (5) befinden sind an einer von der Kathodenschicht abgewandten Oberseite der Fotodiodenschicht. Ein Graben (14) unterteilt die Fotodiodenschicht. Eine Leiterschicht (7) ist in oder an dem Graben angeordnet und verbindet die Kathodenschicht elektrisch leitend mit einem Kathodenanschluss (11). Anodenanschlüsse (12) sind elektrisch leitend mit den Anodenbereichen verbunden.
申请公布号 DE102011009373(A1) 申请公布日期 2012.07.26
申请号 DE20111009373 申请日期 2011.01.25
申请人 AUSTRIAMICROSYSTEMS AG 发明人 TEVA, JORDI, DR.;SCHRANK, FRANZ
分类号 H01L27/146;H01L31/18 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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