发明名称 | 低发散角全布拉格反射波导半导体激光器阵列 | ||
摘要 | 低发散角全布拉格反射波导半导体激光器阵列,属于半导体激光器领域,为了降低纵向和横向发散角,以改善激光器的光束质量,获得高亮度激光输出,本发明设计了低发散角全布拉格反射波导半导体激光器阵列,该阵列纵向结构从下至上依次为:N型衬底、N型限制层、N型布拉格反射波导、有源区、P型布拉格反射波导、P型限制层、P型盖层,所述纵向结构中N型布拉格反射波导和P型布拉格反射波导分别至少由一对高、低折射率材料周期生长组成,该阵列横向结构包括电流注入区和其两侧的横向布拉格反射波导,所述两侧的横向布拉格反射波导分别至少由一对高、低脊形结构周期排列组成,所述低脊形部分紧挨电流注入区。本发明实现了高亮度激光输出。 | ||
申请公布号 | CN102611002A | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
申请号 | CN201210080117.6 | 申请日期 | 2012.03.23 |
申请人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明人 | 杨晔;佟存柱;汪丽杰;王立军;曾玉刚;刘云 |
分类号 | H01S5/22(2006.01)I | 主分类号 | H01S5/22(2006.01)I |
代理机构 | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人 | 南小平 |
主权项 | 低发散角全布拉格反射波导半导体激光器阵列,该阵列的纵向结构从下至上依次为:N型衬底(101)、N型限制层(102)、N型布拉格反射波导(103)、有源区(104)、P型布拉格反射波导(105)、P型限制层(106)和P型盖层(107),所述纵向结构中N型布拉格反射波导(103)和P型布拉格反射波导(105)分别至少由一对高、低折射率材料周期生长组成,其特征在于,该阵列横向结构包括电流注入区(201)和电流注入区(201)两侧的横向布拉格反射波导,所述两侧的横向布拉格反射波导分别至少由一对高、低脊形结构周期排列组成,所述低脊形部分紧挨电流注入区(201)。 | ||
地址 | 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号 |