沉积金属氧化物材料的方法

摘要

本发明涉及一种改善由原子层沉积(ALD)或ALD类工艺形成的金属氧化物涂层的均匀性的方法。使用金属卤化物和含氧前体(优选水)的交替脉冲以及必要时的净化来形成层。含氧前体脉冲之后的变质剂脉冲的引入对层的均匀性有积极影响，通常表现为梯度，特别是在紧密排列   基板的应用中。特别地，层的厚度均匀性得到改善。根据本发明，具有一到三个碳原子的醇类可以用作变质剂。

主权项

降低或消除ALD或ALD类工艺中的层的非均匀性的方法，该方法包括如下阶段：a)将表面暴露于包含至少一种金属卤化物的第一前体或前体混合物，该第一前体选自氯化钽、氯化钛、氯化铝、氯化铪、氯化锆和氯化铌以及它们的混合物，b)将得到的表面暴露于选自水、过氧化氢、叔丁醇和它们的混合物的第二前体，c)将得到的表面暴露于至少一种包含一种化学物质的变质剂，所述化学物质选自具有一至三个碳原子的醇类。