光刻胶组成物及其图案化方法

摘要

一种光刻胶组成物，该组成物具有理想的光感度、解析度、残膜率(residual film ratio)及涂布特性等物理性质，且因其具有绝佳的光透射率，而可在一半导体工艺或一平面显示器工艺中，利用波长为248nm(氟化氪)或更短的光源，来形成具有理想的显影轮廓及聚焦深度(Depth ofFocus)的图案，即使该光刻胶组成物应用于一非化学增幅型光刻胶。该光刻胶组成物包括一酚醛型树脂(novolac-based resin)A、一光感剂(photosensitizer)B及一具有低吸光度的低分子物质C，该具有低吸光度的低分子物质在248nm、193nm和157nm的一或多种光源波长时的吸光度低于该酚醛型树脂的吸光度，且该光刻胶组成物是在光源波长为248nm或更短时被使用。

主权项

1.一种光刻胶组成物，其特征在于该组成物包含一酚醛型树脂A、以该酚醛型树脂A为100重量等份为准，一30至60重量等份的重氮萘醌型光感剂B及以该酚醛型树脂A为100重量等份为准，一10至30重量等份的低分子物质C，其中该低分子物质C在光源为248nm、193nm和157nm的一或多种波长时，具有吸光度低于该酚醛型树脂A的吸光度，其中，该光刻胶组成物可在光源波长为248nm或更短时被使用，且其中该低分子物质C是一以分子结构式1表示的化合物：<分子结构式1>其中R₁及R₂分别为羟基，且n₁是一1到5范围间的自然数。