高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法

摘要

本发明涉及高透低辐射玻璃，尤其是一种后续热处理效果好的高透可钢化低辐射镀膜玻璃及其制造方法，包括玻璃基板，所述玻璃基板向外依次镀制有抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、金属隔离膜层、低辐射功能膜层、金属隔离膜层、抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、保护层。本发明高透可钢化低辐射镀膜玻璃能够在680℃～710℃的条件下进行钢化、热弯处理，钢化前后膜层牢固，光学性能稳定，膜层使用寿命提高等优点。成功解决了高透可钢化低辐射产品玻璃钢化后颜色不稳定；钢化后产品颜色混浊，可视效果差；钢化前、后易脱膜、氧化等外观缺陷。

主权项

一种高透可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基板向外依次镀制有抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、金属隔离膜层、低辐射功能膜层、金属隔离膜层、抗反射膜层、耐高温阻燃膜层、保护层；按次序自玻璃基板向外依次镀制：抗反射膜层为氧化锌锡ZnSnOx，且膜层厚度为55～60nm；耐高温阻燃膜层为氧化锑SbOx，且膜层厚度为45～50nm；位于耐高温阻燃膜层与低辐射功能膜层之间的金属隔离膜层为镍铬合金NiCrOx，且膜层厚度为4～5nm；低辐射功能膜层为金属银Ag，且膜层厚度为8nm；位于低辐射功能膜层与抗反射膜层之间的金属隔离膜层为镍铬合金NiCrOx，且膜层厚度为5～6nm；抗反射膜层为氧化锌锡ZnSnOx，且膜层厚度为55～60nm；耐高温阻燃膜层为氧化锑SbOx，且膜层厚度为45～50nm；保护层为氧化硅SiOx，且膜层厚度为35～40nm。