发明名称 | 阴图制版平版印版前体 | ||
摘要 | 阴图制版平版印版前体具有最外可成像层,所述最外可成像层包含由以下结构(I)或结构(II)表示的氧清除剂和保存期稳定剂:其中Ar为亚苯基或亚萘基,R1和R2独立地为烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、-R5OH、-CH2-C(=O)-R3或-CH2-C(=O)O-R4基团,R3为氢或烷基或苯基,R4为烷基或苯基,R5为亚烷基,R6和R7独立地为氢或烷基、-R5OH、-R5C(=O)-R8或-R5C(=O)OR9基团,R8为氢或烷基,R9为烷基,条件是氧清除剂具有仅仅一个羧基。HOOC-Ar-N(R1)(R2) (I)HOOC-R5-N(R6)(R7) (II)。 | ||
申请公布号 | CN102612435A | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
申请号 | CN201080051366.1 | 申请日期 | 2010.11.04 |
申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | L·梅梅蒂尔;J·黄 |
分类号 | B41C1/10(2006.01)I | 主分类号 | B41C1/10(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 张萍;李炳爱 |
主权项 | 阴图制版平版印版前体,其包含底材,且在底材上具有阴图制版型可成像层作为最外层,所述可成像层包含:a)聚合物粘合剂,b)可自由基聚合的组分,c)一经暴露于成像辐射提供自由基的引发剂组合物,以及d)由以下结构(I)或结构(II)表示的氧清除剂和保存期稳定剂:HOOC‑Ar‑N(R1)(R2)(I)HOOC‑R5‑N(R6)(R7)(II)其中Ar为亚苯基或亚萘基,R1和R2独立地为烷基、烯基、炔基、苯基、苯氧基、‑R5OH、‑CH2‑C(=O)‑R3或‑CH2‑C(=O)O‑R4基团,R3为氢或烷基或苯基,R4为烷基或苯基,R5为亚烷基,R6和R7独立地为氢或烷基、‑R5OH、‑R5C(=O)‑R8或‑R5C(=O)OR9基团,R8为氢或烷基,R9为烷基,条件是氧清除剂具有仅仅一个羧基。 | ||
地址 | 美国纽约州 |